打破日本垄断！三星首次采用本土EUV光刻胶

12月5日消息，在日本限制出口EUV光刻胶后，韩国东进世美肯公司开始研发EUV光刻胶，并在去年通过了三星电子的可靠性认证，在不到一年的时间里，就将其应用到生产线。

光刻胶是半导体曝光工艺中的关键材料，它应用于芯片生产上。当用半导体曝光设备照射光时，会发生化学反应并改变物理性质，通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路，只留下必要的部分。